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PRODUCT CLASSIFICATION
產(chǎn)品分類產(chǎn)品展示/ Product display
日本ARIOS 2英寸實(shí)驗(yàn)室小型磁控濺射設(shè)備日本 ARIOS 2 英寸小型磁控濺射裝置，集成磁控管陰極與基板加熱機(jī)構(gòu)，采用 JIS 機(jī)架緊湊型設(shè)計(jì)，適配 DC/RF 電源，支持基板加熱與升降調(diào)節(jié)，可用于實(shí)驗(yàn)室薄膜沉積工藝，節(jié)省空間且易于操作。
產(chǎn)品型號：濺射裝置廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2026-05-06訪 問 量：107
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日本ARIOS 2英寸實(shí)驗(yàn)室小型磁控濺射設(shè)備 日本ARIOS 2英寸實(shí)驗(yàn)室小型磁控濺射設(shè)備
緊湊型設(shè)計(jì)，節(jié)省安裝空間：僅需約半張辦公桌的空間即可安裝，小型輕量化簡約設(shè)計(jì)，適配實(shí)驗(yàn)室有限空間布局。
性能對標(biāo)大型設(shè)備：雖為小型設(shè)備，卻擁有與正規(guī)濺射裝置同等的規(guī)格和性能，可滿足基礎(chǔ)薄膜沉積工藝需求。
基板調(diào)節(jié)靈活：通過基板升降機(jī)構(gòu)，可任意設(shè)定靶材與基板之間的距離，適配不同工藝參數(shù)要求。
基板加熱功能：基板加熱溫度最高可達(dá) 500℃（可選支持最高 800℃），滿足高溫成膜工藝需求。
雙電源模式可選：濺射電源支持 DC 輸出 500W 或 RF 輸出 300W，適配不同靶材與工藝類型。
冷卻方式：標(biāo)準(zhǔn)配備冷水機(jī)，僅需電力和氣體即可運(yùn)行，水冷式設(shè)計(jì)可有效控制設(shè)備溫度。
模式切換靈活：法蘭具有互換性，可靈活切換為濺射向上或?yàn)R射向下模式，適配不同工藝布局需求。
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 到達(dá)壓力 | 3×10?? Pa 以下 |
| 泄漏量 | 1×10?? Pa?m3/sec 以下（不含 O 型圈透過量） |
| 排氣系統(tǒng) | TMP + 隔膜泵 |
| 真空計(jì) | 全量程真空計(jì)（冷陰極 + 皮拉尼真空計(jì)） |
| 基板臺 | 2 英寸兼容臺 |
| 基板加熱溫度 | 最高 500℃（可選支持最高 800℃） |
| 基板升降機(jī)構(gòu) | 行程 100mm 手動(dòng)操作 O 型圈軸密封 |
| 陰極類型 | 磁控管陰極 |
| 目標(biāo)尺寸 | 2 英寸 |
| 目標(biāo)材質(zhì) | 支持機(jī)械夾持或鍵合方式安裝 |
| 冷卻方式 | 水冷式（搭載冷卻器） |
| 電源配置 | DC 輸出 500W 或 RF 輸出 300W |
實(shí)驗(yàn)室薄膜沉積工藝研發(fā)，如金屬膜、氧化物膜、半導(dǎo)體膜等制備
小批量樣品制備與工藝驗(yàn)證，適配高校、科研院所研發(fā)需求
對設(shè)備空間占用有要求的場景，如桌面級實(shí)驗(yàn)室或小型研發(fā)中心
可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)，適配特殊工藝或非標(biāo)成膜需求
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